Nama merek: | ZMSH |
Ketentuan Pembayaran: | T/T |
Bandwidth substrat N-InP 02:2.5G panjang gelombang 1270nm epi wafer untuk FP laser diode
N-InP substrat FP Epiwafer's Overview
N-InP Substrate FP Epiwafer kami adalah wafer epitaxial berkinerja tinggi yang dirancang untuk pembuatan dioda laser Fabry-Pérot (FP), yang secara khusus dioptimalkan untuk aplikasi komunikasi optik.Epiwafer ini memiliki substrat N-type Indium Phosphide (N-InP), bahan yang terkenal dengan sifat elektronik dan optoelektroniknya yang sangat baik, membuatnya ideal untuk perangkat kecepatan tinggi dan frekuensi tinggi.
Epiwafer dirancang untuk menghasilkan laser dioda yang beroperasi pada panjang gelombang 1270 nm,yang merupakan panjang gelombang kritis untuk sistem multiplexing divisi panjang gelombang kasar (CWDM) dalam komunikasi serat optikKontrol yang tepat dari komposisi dan ketebalan lapisan epitaxial memastikan kinerja yang optimal, dengan dioda laser FP mampu mencapai bandwidth operasi hingga 2,5 GHz.Bandwidth ini membuat perangkat ini cocok untuk transmisi data berkecepatan tinggi, mendukung aplikasi yang membutuhkan komunikasi yang cepat dan dapat diandalkan.
Struktur rongga Fabry-Pérot (FP) dari dioda laser, difasilitasi oleh lapisan epitaxial berkualitas tinggi pada substrat InP,memastikan produksi cahaya koheren dengan kebisingan minimal dan efisiensi tinggiEpiwafer ini dirancang untuk memberikan kinerja yang konsisten dan dapat diandalkan, menjadikannya pilihan yang sangat baik bagi produsen yang bertujuan untuk memproduksi laser dioda mutakhir untuk telekomunikasi,pusat data, dan lingkungan jaringan berkecepatan tinggi lainnya.
Singkatnya, N-InP Substrate FP Epiwafer kami adalah komponen penting untuk sistem komunikasi optik canggih, menawarkan sifat material yang sangat baik, penargetan panjang gelombang yang tepat,dan bandwidth operasional yang tinggiIni memberikan dasar yang kuat untuk memproduksi dioda laser FP yang memenuhi tuntutan ketat jaringan komunikasi kecepatan tinggi modern.
Sifat-sifat substrat N-InP FP Epiwafer
The N-InP Substrate FP Epiwafer is characterized by a set of specialized properties that make it an ideal choice for the fabrication of Fabry-Pérot (FP) laser diodes used in high-performance optical communication systemsBerikut adalah sifat utama Epiwafer ini:
Bahan substrat:
Lapisan Epitaxial:
Panjang gelombang:
Bandwidth:
Ruang Fabry-Pérot:
Kualitas Permukaan:
Sifat Termal:
Kesesuaian Aplikasi:
Sifat-sifat ini secara kolektif berkontribusi pada kemampuan Epiwafer untuk mendukung produksi dioda laser FP berkualitas tinggi,memenuhi tuntutan ketat dari teknologi komunikasi optik modern.
Aplikasi dari N-InP substrat FP Epiwafer
N-InP Substrate FP Epiwafer adalah komponen penting dalam pengembangan perangkat optoelektronik canggih, terutama dioda laser Fabry-Pérot (FP).Sifat-sifatnya membuatnya cocok untuk berbagai aplikasi dalam komunikasi berkecepatan tinggi dan bidang terkaitBerikut adalah aplikasi utama:
Sistem komunikasi optik:
Pusat Data:
Telekomunikasi:
Peralatan pengujian dan pengukuran:
Sensing dan Metrologi:
Kemampuan serbaguna dan karakteristik kinerja tinggi N-InP Substrate FP Epiwafer menjadikannya landasan untuk berbagai teknologi mutakhir dalam komunikasi optik, pusat data,telekomunikasi, dan seterusnya.
Foto dari substrat N-InP FP Epiwafer