Nama merek: | ZMSH |
Nomor Model: | Wafer SiC |
Ketentuan Pembayaran: | T/T |
SiC Substrat 4H/6H-P 3C-N 45,5mm~150,0mm Z Grade P Grade D Grade
Studi ini mengeksplorasi sifat struktural dan elektronik substrat silikon karbida (SiC) politipe 4H/6H yang terintegrasi dengan film SiC 3C-N yang tumbuh secara epitaxial.Transisi politipik antara 4H/6H-SiC dan 3C-N-SiC menawarkan kesempatan unik untuk meningkatkan kinerja perangkat semikonduktor berbasis SiCMelalui deposisi uap kimia suhu tinggi (CVD), film 3C-SiC disimpan pada substrat 4H/6H-SiC, yang bertujuan untuk mengurangi ketidakcocokan kisi dan kepadatan dislokasi.Analisis rinci menggunakan difraksi sinar-X (XRD), mikroskop kekuatan atom (AFM), dan mikroskop elektron transmisi (TEM) mengungkapkan keselarasan epitaxial dan morfologi permukaan film.Pengukuran listrik menunjukkan peningkatan mobilitas pembawa dan tegangan pemecahan, membuat konfigurasi substrat ini menjanjikan untuk generasi berikutnya dari aplikasi elektronik bertenaga tinggi dan frekuensi tinggi.Studi ini menekankan pentingnya mengoptimalkan kondisi pertumbuhan untuk meminimalkan cacat dan meningkatkan koherensi struktural antara politipe SiC yang berbeda.
Substrat 4H/6H politipe (P) silikon karbida (SiC) dengan 3C-N (nitrogen-doped) SiC film menunjukkan kombinasi sifat yang bermanfaat untuk berbagai kekuatan tinggi, frekuensi tinggi,dan aplikasi suhu tinggiBerikut adalah sifat utama dari bahan-bahan ini:
Properti ini membuat kombinasi 4H/6H-P dan 3C-N SiC substrat serbaguna untuk berbagai aplikasi elektronik, optoelektronik, dan suhu tinggi.
Kombinasi substrat 4H/6H-P dan 3C-N SiC memiliki berbagai aplikasi di beberapa industri, terutama dalam perangkat bertenaga tinggi, suhu tinggi, dan frekuensi tinggi.Di bawah ini adalah beberapa aplikasi utama:
Aplikasi ini menyoroti fleksibilitas dan pentingnya substrat 4H/6H-P 3C-N SiC dalam memajukan teknologi modern di berbagai industri.
Apa perbedaan antara 4H-SiC dan 6H-SiC?
Singkatnya, ketika memilih antara 4H-SiC dan 6H-SiC: Pilih 4H-SiC untuk elektronik bertenaga tinggi dan frekuensi tinggi di mana manajemen termal sangat penting.Pilih 6H-SiC untuk aplikasi yang memprioritaskan emisi cahaya dan daya tahan mekanik, termasuk LED dan komponen mekanik.
Kata kunci: SiC Substrat SiC wafer wafer silikon karbida