SiO2 tebal besar termal oksida pada wafer silikon untuk sistem komunikasi optik

Deskripsi Produk

SapphiLarge Thickness Thermal Oxide (SiO2) Pada Wafer Silikon Untuk Sistem Komunikasi Optik

Secara umum ketebalan lapisan oksida wafer silikon terutama terkonsentrasi di bawah 3um,dan negara-negara dan wilayah yang dapat secara stabil memproduksi lapisan silikon silikon tebal berkualitas tinggi (di atas 3um) masih didominasi oleh Amerika Serikat, Jepang, Korea Selatan dan Taiwan, Cina.batas ketebalan film dan kualitas pembentukan film dari film oksida (SiO) di bawah proses pertumbuhan lapisan oksida saat ini, dan menghasilkan maksimum 25um ((+5%) lapisan oksida ultra tebal wafer silikon dengan kualitas tinggi dan efisiensi tinggi dalam waktu yang relatif singkat.indeks bias 1550nm 1.4458 + 0.0001. Berkontribusi untuk lokalisasi 5G dan komunikasi optik.

Alasan dariSuatu hari komunikasi optik akan menggantikan komunikasi kabel dan gelombang mikro dan menjadi arus utama komunikasi

1. Perangkat komunikasi optik adalah dasar membangun sistem dan jaringan komunikasi optik
2. Perangkat pasif optik adalah bagian penting dari peralatan komunikasi serat optik, dan juga merupakan komponen yang sangat diperlukan dari aplikasi serat optik lainnya.
3. Perangkat pasif optik mewujudkan fungsi koneksi, attenuasi energi, shunt isolasi terbalik atau shunt, modulasi sinyal dan penyaringan di jalur optik masing-masing
4. Di antaranya, Splitter, Star coupler, Optical switch, wavelength division multiplexer (WDM), array waveguide grating (AWG), dll.adalah semua perangkat optik pasif berdasarkan solusi teknologi hidung gelombang optik planar.
5. Untuk pembimbing gelombang optik, silika (Sio), dengan sifat optik, elektromekanik dan stabilitas termal yang baik,dianggap sebagai pendekatan teknis yang paling praktis dan menjanjikan untuk integrasi optik pasif.

Aplikasi termal oksida (SiO2) pada wafer silikon

• Dalam konteks perkembangan cepat 5G dan komunikasi optik, serta kebutuhan orang yang meningkat untuk transmisi dan pertukaran informasi,mengejar kecepatan tinggi dan keterlambatan rendah adalah tak ada habisnya
• Sebagai pembawa jalur optik yang sangat baik, silikon dioksida (SiO2) juga telah mengajukan persyaratan yang lebih tinggi dan lebih menuntut untuk ketebalan dan kemurniannya,dan silikon lapisan oksida adalah bahan yang sangat diperlukan untuk mendukung komunikasi optik perangkat optik.
• Negara-negara dan wilayah yang dapat menghasilkan lapisan oksida tebal (di atas 3um) dengan kualitas dan stabilitas yang tinggi masih terutama Amerika Serikat, Jepang, Korea Selatan dan Taiwan, Cina.

Metode produksi

Wafer silikon membentuk lapisan silika melalui tabung tungku di hadapan agen oksidasi pada suhu tinggi, proses yang dikenal sebagai oksidasi termal.Kisaran suhu dikendalikan dari 900 sampai 1, 250°C; rasio gas oksidasi H2:O2 adalah antara 1.51:1 dan 3:1Menurut ukuran wafer silikon, akan ada kehilangan aliran yang berbeda tanpa ketebalan oksidasi.Substrat wafer silikon adalah 6 "atau 8" silikon monokristalin dengan ketebalan lapisan oksida 0.1μm sampai 25μm.

Spesifikasi standar

Rincian produk

Produk lain yang kami miliki

Wafer Safir Wafer PSS